Introduzzjoni tal-Prodotti

Aħna nużaw-nikil ta 'purità għolja bħala materja prima u nużaw teknoloġija tal-ipproċessar professjonali u teknoloġija tal-illustrar biex il-miri tan-nikil tagħna jkollhom il-karatteristiċi ta' effiċjenza għolja ta 'sputtering u stabbiltà termali tajba. Fl-industrija tas-semikondutturi, il-miri tan-nikil huma materjal ta 'sputtering partikolarment kritiku minħabba li jistgħu jiddepożitaw films tan-nikil uniformi u ta' kwalità-għoli fuq sottostrati tas-semikondutturi. Kemm jekk huma ċipep loġiċi, ċipep tal-memorja, jew diversi sensuri semikondutturi avvanzati, il-miri tan-nikil Ni201 għandhom rwol insostitwibbli u huma wieħed mill-materjali ewlenin biex jiżguraw il-prestazzjoni u l-affidabbiltà tal-prodotti semikondutturi.

Speċifikazzjoni tal-Prodotti

Tul	100mm-500mm
Wisa'	80mm-300mm
Ħxuna	Personalizzat
Tolleranza	± 0.05mm
Punt tat-tidwib	1455 grad
Densità	8.9g/ċm³
Saħħa tat-tensjoni	Akbar minn jew ugwali għal 450MPa
Qawwa tar-Rendiment	Akbar minn jew ugwali għal 200MPa
Ebusija	HRB 50 - 55
Titwil	Iktar minn jew ugwali għal 30%

Karatteristiċi tal-prodott u applikazzjonijiet

Eċċellenti sputtering uniformità

Aħna nużaw proċessi ta 'manifattura avvanzati u standards għoljin ta' kontroll tal-kwalità, li jippermettu li l-miri tan-nikil tagħna juru livell għoli ta 'uniformità matul il-proċess ta' sputtering. Din l-uniformità tippermetti li l-atomi tan-nikil jiġu rilaxxati mill-wiċċ fil-mira u ddepożitati fuq is-sottostrat b'rata stabbli u konsistenti, li jiffurmaw film tan-nikil b'devjazzjoni minima u flatness għolja tal-wiċċ.

Proprjetajiet mekkaniċi eċċellenti

Materjal fil-mira tan-nikil Ni201 għandu saħħa tensili tajba, saħħa ta 'rendiment, u elongazzjoni, sabiex ikun jista' jiflaħ diversi stress ta 'proċessar matul il-produzzjoni u l-ipproċessar mingħajr ma jinkiser.

Stabbiltà termali tajba

Fil-proċess tal-manifattura tas-semikondutturi, ir-reżistenza għat-temperatura għolja hija attribut tal-prodott li ma jistax jiġi injorat. Materjal fil-mira tan-nikil Ni201 għandu stabbiltà termali tajba u jista 'jżomm proprjetajiet fiżiċi u kimiċi stabbli f'temperaturi għoljin. Mhux se jikkawża espansjoni, kontrazzjoni u deformazzjoni ovvji minħabba temperaturi għoljin. Dan jiżgura proċess ta 'sputtering stabbli u kwalità konsistenti tal-film tan-nikil.